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公司基本資料信息
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半導體UV固化機通過高能紫外光(365nm/395nm)激發(fā)光引發(fā)劑聚合反應,實現(xiàn)膠水、光刻膠的秒*固化,其峰值光強≥1500mW/cm2可穿透50μm厚膠層,使晶圓封裝翹曲率降低至0.02mm/m。采用多通道LED陣列與光學透鏡組,能量均勻性達±3%,解決Mini LED巨量轉(zhuǎn)移中因固化不均導致的亮度差異問題。在Flip Chip工藝中,UV固化機通過閉環(huán)溫控(±1℃)抑制熱膨脹,使錫球回流焊良率提升12%;配合氮氣惰性環(huán)境(氧含量<100ppm),可避免自由基聚合被氧氣阻聚,確保Underfill膠體固化度達99.9%。針對3D IC堆疊,其動態(tài)光強調(diào)節(jié)功能(10%~**無*變速)適配不同介電材料,TSV填膠孔隙率降至0.5%以下。當前第五代機型集成AI光斑追蹤系統(tǒng),實時補償基板形變引發(fā)的焦距偏移,使FOWLP工藝的固化位置精度達±5μm。半導體UV固化機正以**、低溫、零污染的優(yōu)勢,成為先進封裝不可或缺的裝備。